用於透過電子束蒸發進行薄膜沉積的超薄磁性薄膜和多層膜的原位實時磁光克爾效應研究的 UHV 系統。
- 150 °C 烘烤後的基本壓力範圍 10 -10 mbar
- 磁極垂直於樣品排列
- 場 beetwen 磁極 > 0,17 特斯拉
- 用於標誌樣品架的 4 軸 UHV 樣品操縱器
- 樣品加熱至 800 °C 並用 LN 2冷卻
- MOKE 室的光學系統(調製器、偏振器、光電探測器、鐳射器)
- 帶裝置的整個腔室安裝在定位臺上
- 真空手提箱,便於樣品運輸
用於透過電子束蒸發進行薄膜沉積的超薄磁性薄膜和多層膜的原位實時磁光克爾效應研究的 UHV 系統。