眾所周知，我們國內半導體發展一直缺少一個核心的東西，那就是光刻機。而在光刻機的領域當中，一直是ASML處於一個較高的地位，我們需要製造晶片的話需要從ASML手中獲得光刻機。
只是有些遺憾的是，ASML因為有些特殊的因素，並不能自由地對我們出貨高階光刻機，以至於我們在高階的晶片生產上一直處於一個困境的局面。包括到現在，中芯之前訂購的那一臺高階光刻機都是沒有發貨的。因此在這個時候，我們越來越深刻的認識到研究出有自己技術的光刻機變得越來越重要，畢竟我們的晶片要實現真正的自主化，自研發光刻機是必須要走的一條路。
而幸運的是，如今我們在晶片自主化的道路上更進了一步。因為就在近日我們國產的“光刻機”正式亮相了。
根據相關的資訊顯示，上海微電子舉行了新產品的釋出會，而在這一場釋出會當中上海微電子推出了新一代大視場高解析度的先進封裝光刻機。據悉，新一代的封裝光刻機主要應用於一些高密度異構整合的領域，可以幫助晶圓級先進封裝企業實現更多晶片高密度互連的封裝技術應用。目前，上海微電子已經就這個新的光刻機和多家客戶達成了相關的銷售協議，而第一臺這樣的光刻機將會在年內的時候完成交付。
這對於我們國內推進晶片自主產業化發展來說具有相當重要的意義。不過，這一臺光刻機的亮相倒是引發了不少的爭議。不少的網友認為，這樣的光刻機並不能緩解我們當下被限制的局面。簡單點來說，這個訊息沒有什麼值得好高興的。
從某種角度上來說，這不能緩解當下被限制的局面的言論是正確的。剛剛在文章的前面小編就說過，我們無法從ASML手中獲得高階的光刻機，而這也是我們當下最缺少的核心技術。在這個時候，想要徹底的打破封鎖，我們只能在晶片光刻機上突破，當下這所謂的封裝光刻機並不能打破“封鎖”。
但小編並不認為這個訊息就不值得高興了。要知道雖然封裝的光刻機並沒有如晶片光刻機一樣需要較高的技術含量，但這始終是我們自己的東西。而是我們自己的技術，就意味著在這一方面我們並不需要被卡脖子。所以，小編還是認為這對於國內半導體發展來說有很大的作用。
不過與此同時，小編還是很擔憂國內半導體在晶片光刻機上到底要多久才會有更好的成績出來。畢竟現在ASML的地位越來越高。比如說在近日，ASML就宣佈要全面的提高高階光刻機的產能。值得注意的是，截止在今年的第二季度，ASML的EUV光刻機出貨量就高達了102臺。在這個時候，ASML還在宣佈擴大產能，不難看出ASML在高階光刻機上被需要的地位正在與日俱增。
而ASML的地位越高，這對於我們來說並不利。這意味著EUV的時代已經來了，而我們在DUV的光刻機上都沒有拿出和ASML抗衡的技術。換句話說ASML正在逐漸的拉開這個差距，且這個差距還越來越大。如此情況下，我們到底要什麼時候才能追趕上？
寫在最後
我們並不能因為現在就缺少自研發的高階晶片光刻機就指望著中國的半導體企業現在就要拿出成績來，畢竟大家都知道我們中國半導體在過去並不是有多深厚的技術底蘊。能夠在現在看到國內半導體有了一個新的變化的時候，我們應該知足。而不是用言論讓其揹負太多壓力。只有一步一個腳印，穩紮穩打的來我們才有更多的希望。你們說是嗎？歡迎留言評論、點贊和分享！
